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水熱合成釜

簡要描述:水熱合成釜 合成釜 型號:TC-HCF-21 (200ML)
技術參數
主要技術指標:
1.工作溫度:≤230℃
2.工作壓力:≤2MPa(表壓)
研究的常用小型反應器

  • 產品型號:TC-HCF-21
  • 廠商性質:其他
  • 更新時間:2024-05-03
  • 訪  問  量:552

詳細介紹

品牌其他品牌產地國產
加工定制

水熱合成釜  型號:TC-HCF-21 (200ML)

水熱合成釜

技術參數
主要技術指標: 
1.工作溫度:≤230℃ 
2.工作壓力:≤2MPa(表壓) 
3.升溫、降溫速率:≤5℃/min 
產品規格:25ml 50ml 100ml 120ml  200ml
另可根據用戶需求設計生產。

主要特點
特點: 
采用優質不銹鋼加工而成。釜體與釜蓋密封采用耐用、可靠的線密封結構,密封效果長期穩定無泄漏。 
釜蓋緊固結構采用均置螺栓、并輔以釜體定位裝置,以利合成釜的開啟與密閉。 
采用外加熱方式,以縮小體積,并有利多反應釜處于同一反應操作溫度(如將多個反應釜置于烘箱中加熱)。 

儀器介紹

用途: 
是為在一定溫度、一定壓力條件下合成化學物質提供的反應器。它廣泛應用于新材料、能源、環境工程等領域的科研試驗中,是高校教學、科研單位進行科學研究的常用小型反應器。

 

1.工作溫度:≤230℃ 
2.工作壓力:≤2MPa(表壓) 
3.升溫、降溫速率:≤5℃/min 
產品規格:25ml 50ml 100ml 120ml  200ml
另可根據用戶需求設計生產。

主要特點
特點: 
采用優質不銹鋼加工而成。釜體與釜蓋密封采用耐用、可靠的線密封結構,密封效果長期穩定無泄漏。 
釜蓋緊固結構采用均置螺栓、并輔以釜體定位裝置,以利合成釜的開啟與密閉。 
采用外加熱方式,以縮小體積,并有利多反應釜處于同一反應操作溫度(如將多個反應釜置于烘箱中加熱)。 

儀器介紹

用途: 
是為在一定溫度、一定壓力條件下合成化學物質提供的反應器。它廣泛應用于新材料、能源、環境工程等領域的科研試驗中,是高校教學、科研單位進行科學研究的常用小型反應器。


 

 

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