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薄層顯色加熱器 XR-Ⅰ

簡要描述:薄層顯色加熱器 XR-Ⅰ
? 電源、功率: 220V ± 10 %, 50-60HZ , 660W
? TD-XR-II顯色加熱器 :全不銹鋼加熱臺 自動控溫:0 -110 ℃可調
電源: 220V ± 10 %
功率: 50-60H

  • 產品型號:TD-XR-Ⅰ
  • 廠商性質:其他
  • 更新時間:2024-04-30
  • 訪  問  量:3800

詳細介紹

薄層顯色加熱器 XR-Ⅰ

 推出的系列薄層分析設備之一,可加速薄層樣品顯色反應、熒光反應及碳化技術,克服了試劑氣體腐蝕危害烘箱設備,并使顯色反應一目了  然。其加熱溫度自動恒定,使薄層分析工作更加簡便,另外可作為手工點樣臺,加熱 點樣使斑點細小,提高板效,效果理想

薄層顯色加熱器 XR-Ⅰ

是我廠推出的系列薄層分析設備之一,可加速薄層樣品顯色反應、熒光反應及碳化技術,克服了試劑氣體腐蝕危害烘箱設備,并使顯色反應一目了  然。其加熱溫度自動恒定,使薄層分析工作更加簡便,另外可作為手工點樣臺,加熱 點樣使斑點細小,提高板效,效果理想

 

 

 

 

產品名稱:晶閘管伏安特性測試儀
產品型號:DBC-021

晶閘管伏安特性測試儀型號:DBC-021

該測試儀是符合國標GB4023-83《半導體器件整流二管的測試方法》和GB-4024-83《半導體反向阻斷三晶閘管的測試方法》,能測試各種晶閘管(KP、KK、KA、KS)及晶閘管模塊的VDSM、VRSM、VDRM、VRRM、IDSM、IRSM、IDRM、IRRM與各種整流二管(ZP、ZK)的VRSM、VRRM、IRSM、IRRM等參數。線路設計簡潔精煉,采用單片機控制,具有體積小、重量輕、操作簡單、測試準確、保護可靠和維修方便等特點,是晶閘管及整流管器件廠、經銷商及整機廠檢測器件伏安特性參數Z為理想的檢測設備 
主要技術指標: 
1.峰值電壓測量范圍:0—3000V、0—4500V、0—6000V、0—9000V 
2.峰值漏電流測量范圍:0—100mA、0—200mA 
3.峰值漏電流保護設定范圍:0—99mA、0—198mA 
4.機內示波器可觀看動態峰值電壓與峰值漏電流的變化伏安特性曲線波形

 

 

 

 

 

產品名稱:振實密度儀 實密度計 擊密度測試儀 擊密度計
產品型號:TC-PF-200B

振實密度儀 實密度計 擊密度測試儀 擊密度計 型號: F-200B

于:電池行業,冶金粉末行業,碳粉行業,焦炭石墨行業,磁材行業,生物制藥行業,能源材料行業,塑膠行業,奶粉行業,各種礦石粉體材料、陶瓷粉末、電子粉體材料、醫藥用粉末、粉煤灰等
 F-200B符合ASTM 和USP method II ,GB,ISO,美國藥典標準要求,操作達到Z化、振動頻率可調、振動臺配置三個,可裝三種容積的刻度量筒、量筒固定裝置設計更合理、整機功耗低、長期工作穩定可靠。 
一、概述: 
本儀器按ASTM 和USP method II ,GB,ISO,美國藥典標準的要求設計,采用高性能微處器(MCU),運用電改寫數字存儲器件(E2PROM),配合高性能霍爾探測器、高分辯A/D轉換器、高速運算放大器等集成電路,設計先進,控制穩定、可靠,具有拍擊次數設定,自動停拍。配三種容積的刻度量筒,即可測量出所有松裝密度粉末或顆粒的振實密度值. 
本測試儀具有:振動頻率可調(以不同的行業測量)、刻度量筒的容積有三種配置(所有密度的粉末或顆粒),設計合理、操作簡便等,于金屬、非金屬或金屬氧化物及其他化合物粉末或顆粒的拍擊(振實)密度測試。 
二、工作原理簡述 
裝有粉末或顆粒的刻度量筒固定在機械振動裝置上,振動電機帶動機械振動裝置垂直上下振動,裝有粉或顆粒的刻度量筒隨機械振動裝置而發生有節拍的振動,隨著振動次數的增加,刻度量筒里的粉末或顆粒逐漸振實,振動次數達到設定的次數后,機械振動裝置停止振動,讀出刻度量筒的體積,根據密度的定義:質量除以體積、從而求出振實后的粉末或顆粒密度。 
三、主要技術指標: 
· 符合ASTM 和USP method II ,GB,ISO,美國藥典標準
· 五位數字 LED顯示 
· 計數范圍:1~99999 
· 拍擊頻率:0~300次/分(變頻調節) 
· 拍擊幅度:3 mm (固定) 
· 試管夾裝置: 三套 
· 標配刻度量筒數:六只(三種共六只) 
· 供電方式:AC 220V/50Hz 
· 功 率:< 70 W 
· 尺 寸:360mm×300mm×155mm 
· 重 量: 18 kg
備注:USP-美國藥典,ASTM-美國材

 

 

 

產品名稱:氮氣吹掃濃縮儀/氮吹儀/濃縮儀/氮氣吹掃儀
產品型號:N-EVAP-12

氮氣吹掃濃縮儀 氮吹儀 濃縮儀 氮氣吹掃儀 型號:N-EVAP-12

氮吹儀N-EVAP系列、S-EVAP系列(煮沸型溶劑蒸發器、特別于以濃酸濃堿為溶解媒體的試樣濃縮)及M*P系列(試管氮吹濃縮儀、Z多可對100支試管同時進行濃縮),能提供多種樣品位數,用于液相、氣相及質譜分析中的樣品制備。它采用認可的技術,通過將氮氣吹入加熱的樣品表面從而進行樣品濃縮,這種方法省時、操作方便、容易控制,可很快地得到期望的結果。

N-EVAP系列氮吹儀

N-EVAP系列氮吹儀包括底座和支架裝置、樣品架和氣體分配系統。試管通過帶彈簧的試管夾和支撐盤來固定位置,每個位置都加以編號。5-10psig的氣體通過一個可調流量計進入氣體分配歧管。靈活的引導管將氣體導入每個位置的閥-導氣管接口處。根據試管大小和溶劑多少,各導氣管可獨立升降至合適的高度。針或玻璃管將氣體吹至溶液表面,從而使溶劑迅速揮發。材質耐有機溶劑。對于腐蝕性應用情況,可選擇耐酸型號。

圓形不銹鋼水浴溫度可調節并可以控制,在室溫~90℃的溫度范圍內可準確保持恒定水溫。另外您還可以選擇內填玻璃珠或者鋁珠的干浴鍋,溫度操作范圍為室溫~130℃,干浴鍋安裝有高溫限制開關以確保安全,可選用電子GFCI插頭。另可選擇內安全式的、清掃式的浴鍋鍋體。浴鍋經UL/CUL驗證,可供實驗室使用。

主要特點:

l        提供多種型號:6位、12位、24位、34位、45位;

l        尺寸緊湊,占用Z少通風廚空間;

l        圓周型樣品支架可旋轉,操作者可從正面接觸樣品,操作方便;

l        可容納樣品試管尺寸范圍為直徑10-29mm、內裝液體體積1-50ml;

l        于試管、錐形瓶、離心管等;

l        較大的型號底部裝有環型彈簧支撐裝置,可方便的升降支架進出;

l        使用氮氣或空氣吹掃樣品表面;

l        恒溫控制,水浴提供溫和加熱;

l        氮氣消耗量低,330ml/min/樣

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